- 題名
- 3D Stack Ultra High Resistance Via Matrix by Cu BEOL Structures in Nano-scaled CMOS Processing Node
- 創作者：
- Li-Yu Yeh (作者)Ya-Lin Chang (顧問)Yue-Der Chih (顧問)Jonathan Chang (顧問)Chrong-Jung Lin (顧問)雅琴 金 (作者)
- 學術資源類型
- 會議論文
- 出版日期
- 09/2023
- 出版資訊
- 2023 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
- 語言
- 英語
- 期刊等級
- false
會議論文
3D Stack Ultra High Resistance Via Matrix by Cu BEOL Structures in Nano-scaled CMOS Processing Node
2023 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
09/2023
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