Abstract
本論文之研究焦點，在於矽奈米結構之光學吸收以及光學發射之特性，特別是在可見光之波段。此奈米結構是以適用於量產方式之奈米金屬粒子蝕刻法製作，此奈米金屬粒子蝕刻法是一種純濕式化學蝕刻方式，可在常溫下針對包含單晶矽以及多晶矽基板進行蝕刻，可於數分鐘內，在矽基板表面完成奈米結構化之動作。使用此奈米金屬粒子蝕刻法所製作出之矽奈米結構，其特徵尺寸約略在幾十至幾百奈米之範圍，能對可見光產生交互影響，因而成為光學功能性材料。 本文針對上述之矽奈米結構，進行包含反射、吸收以及發光之各種機制之研究與探討。在矽奈米結構的備製上，除前述所提及之奈米金屬粒子蝕刻法外，亦使用各項氣體蝕刻與薄膜沈積等後續製程，觀察物理性質之變化。在物性量測上，使用了半球光頻譜量測，X-ray光電導頻譜分析，X-ray晶向繞射，微波載子生命週期量測等方式，對矽奈米結構作定性定量分析。本論文已完成之各項具指標性意義的矽奈米結構研究如下：（1）可見光與近紅外光全頻譜反射率僅1%之六吋單晶與多晶矽黑色太陽能晶片（2）黑色太陽能晶片之表面鈍化處理（3）可應用於薄膜型矽太陽能電池之抗反射奈米海綿（4）藍光強發射矽奈米樹狀結構陣列（5）可見光電致發光之矽基材二極體。 本論文所研究之成果，可應用於光電、電子、生醫、能源等廣泛領域，尤其適用於太陽能電池的光電轉換效率提升以及矽奈米光電積體電路之開發。而除了對太陽能電池有所效益外，研究內容中，對於黑色太陽能晶片之表面鈍化處理，創新使用了常溫下有機高分子氣相沈積的方式，發現有機高分子氣相沈積可針對高深寬比矽奈米結構進行表面鈍化，有效減少矽基材表面缺陷，降低載子表面結合現象，此成果可應用於未來更高精密度之奈米電子元件，進行更微小更高速之電晶體研發。另外，本論文之研究成果，業已發現在矽基材上，可突破矽之能隙限制，產生強烈的藍光發射，甚至白光（全頻段可見光）發射，此成果亦可對矽奈米光電積體電路發展上之瓶頸 — 可整合於晶片之光電轉換器，開闢一條解決途徑。