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多重微波源電漿源之研究
Dissertation

多重微波源電漿源之研究

張志振
Doctor of Philosophy (PHD), 國立清華大學, 物理系
2003

Abstract

表面波電漿 Surface wave plasma multiple microwave sources
這篇論文的主旨在於研究一種新型的多微波源電漿反應器。 電漿是由六個脈衝型微波源在不同的位置以間隔1/360秒的時間發射2.45GHz脈衝微波(pulsed microwave)所激發產生的。微波的脈衝寬度約為1/300秒。每個微波源以WR284波導管將微波垂直送入電漿反應器的不同區域,每個不同的區域構成獨立的表面波結構,藉由高頻電磁波結構模擬器(HFSS)的輔助設計,可以優化每個獨立表面波結構中的TM21模態,再藉由傳輸線理論,並以電漿的等效阻抗來代表電漿的行為,於是可以計算TM21模態所激發的電漿密度,此計算結果將與實驗量測值比較。在實驗量測方面,這篇論文提出一種時間定序方法量測電漿密度,此方法是以磁控管陽極電流作為外部觸發信號,從而作時間定序,也就是藉由具有週期性的磁控管陽極電流,標定出每個週期(1/60秒)的時間參考座標,然後針對每個週期之內的各個時間點,以藍姆(Langmuir)探針量取電漿的電流-電壓特性曲線,從而得出隨著時間變化的電漿特性參數,其中包括電漿密度、電漿溫度、電漿均勻度以及電子能量分布函數(EEDF)。將電漿密度的量測值取其時間平均值並與理論值作比較,發現之間具有相當程度的近似。在研究中也發現電漿溫度與脈衝型微波源的脈衝振幅有關,並且高能量分布的電子數目較多,此現象與單一微波源連續波(CW)電漿不盡相同。

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