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矽基材料之摻雜與硒化銦一維奈米結構之合成與性質研究
Dissertation

矽基材料之摻雜與硒化銦一維奈米結構之合成與性質研究

Lee, Wei-Fan
Doctor of Philosophy (PHD), 國立清華大學, 材料科學工程學系
2008

Abstract

奈米線 矽鍺 硒化銦 相變記憶體 nanowire silicon silicon germanium indium selenide phase change memory
一維奈米結構是近來最受矚目的一個研究方向,除了物質在奈米尺度下所具有的特殊物理性質外,同時也是奈米元件的最小組成單元。本研究將重心放在一維奈米線的合成及摻雜的性質研究,涵蓋的範圍可區分為三個部分。第一部分為矽奈米線中摻入釹的稀土元素。釹摻雜的矽奈米線可利用水平爐管搭配氯化釹的粉末做為摻雜來源成功的合成出來。在性質方面除了稀土元素釹本身具有的1.3微米的放光外,室溫下釹摻雜的矽奈米線所具有鐵磁的行為也是首次被觀察到。此外,電阻率及場發射性質的量測間接的提供了釹元素摻雜入矽奈米線的證據。第二部分為矽鍺奈米線的合成,在本實驗中,首次發現利用碘的粉末搭配矽及鍺的反應物可成功的在爐管中成長出矽鍺奈米線,碘在整個反應過程中扮演著一個不可或缺的關鍵角色。此外,利用不同比例的矽與鍺粉末可用以控制所成長出的矽鍺奈米線的成分比例。而在性質方面,利用離子佈植的技術可將錳離子摻雜進矽鍺奈米線中,成功的合成並觀測到在室溫下具有鐵磁行為的錳摻雜矽鍺奈米線。不論是釹摻雜的矽奈米線或是錳摻雜的矽鍺奈米線,其於室溫下所具有的鐵磁行為,都是未來應用於自旋電子元件中相當具有潛力的材料。 最後一個部分為硒化銦奈米帶的研究。硒化銦是一個在相變記憶體上常被運用的材料,利用爐管以氣-液-固 (Vapor-liquid-solid)三相的方法可成功合成出具有超晶格結構的硒化銦奈米帶,將所合成出的奈米帶以離子束聚焦的方式把鉑鍍在奈米帶的兩端做為電極,再以電性設備進行觀測,利用調控不同的電流強度可控制奈米帶的結晶行為進而達到1及0的訊號控制。此外,在光學量測的部份,由於硒化銦奈米帶具有一個較窄的能隙,且載子傳輸可在一個維度方向上,在太陽能電池的應用上也是一個適當的選擇。

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