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反應式直流磁控濺鍍法製備 (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx 高熵薄膜之研究
Thesis

反應式直流磁控濺鍍法製備 (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx 高熵薄膜之研究

蔡佳凌
Masters, 國立清華大學, 材料科學工程學系
2013

Abstract

高熵氮化膜 反應式濺鍍 硬度 非晶 抗氧化性
因申請專利緣故,資料延後公開

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