Abstract
本研究利用熱裂解化學氣相沉積法於快速升降溫系統中高溫成長垂直奈米碳管，以磁控濺鍍Fe催化劑於Si基板上，探討成長參數對於垂直奈米碳管成長高度的影響，其成長參數包含成長時間、催化劑厚度、成長溫度及成長壓力，並探討何種成長參數能有效控制垂直奈米碳管之成長高度。利用XPS分析Fe催化劑於高溫熱處理前、後及成長奈米碳管後化學狀態之差異，進而瞭解成長奈米碳管時Fe催化劑之化學狀態。最後，添加少量Ni於Fe/Si中，形成Fe/Ni/Si催化劑結構，探討對於成長垂直奈米碳管之影響，發現其垂直奈米碳管成長高度是未添加Ni之約5.5倍高，並探討添加少量Ni於此Fe/Ni/Si催化劑結構所扮演之角色。