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193nm光解丙烯醛分子研究
Thesis

193nm光解丙烯醛分子研究

高雅婷
Masters, 國立清華大學, 化學系
1999

Abstract

丙烯醛 193nm acrolein propenal 193nm LIF
摘要 本實驗以193 nm 光解丙烯醛(propenal﹔C2H3CHO),研究產物甲醛基雷射誘發螢光之轉動光譜,以瞭解丙烯醛光解動力學。以193 nm 光解丙烯醛,產物甲醛基(HCO)轉動能分佈約至N = 30、Ka = 0 ~ 3,而實驗佈居數及相空間理論計算(phase-space theroy)結果並不吻合,推測甲醛基是經由有能障途徑生成。參考丙烯醛各電子位能面相互作用之理論計算,推論甲醛基是經由T1(3np*)位能面途徑產生,且光解產物甲醛基與乙烯基均在電子基態,並存在於高振動模態,但甲基醛分子多為穩定態,而不穩定甲醛基約僅佔2.5 %。產物甲醛基之振動內能約為1.5 kcal/mol,約佔Eavl(51.5 kcal/mol)之3.0 %﹔而轉動內能約為1.3 kcal/mol,約佔Eavl(51.5 kcal/mol)之2.6 %﹔但對乙烯基而言,則有較大比例可存在不穩定態,使得有二次解離反應發生,乙烯基可解離產生氫原子及乙炔。

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