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(1)陰離子染料之泡沫分離研究(2)以石墨爐原子吸收光譜法直測海水中鎘含量
Thesis

(1)陰離子染料之泡沫分離研究(2)以石墨爐原子吸收光譜法直測海水中鎘含量

莊恆
Masters, National Tsing Hua University
1989

Abstract

陰離子染料泡沫分離石墨爐原子吸收光鎘 HTA-(HEXADECYLTRIMETHYLAMMONIUNLS-(SODIUM-LAURYL-SULFATE)STPF
(一)陰離子染料之泡沫分離研究本文探討氣泡吸附分離法以去除水中陰離子染料 C.I.Acid Blue 1, 內容主要包含泡沫分餾法、溶劑聚集浮選法及膠體吸附浮選法; 界面活性劑 HTA (Hexadecyltrimethylammonium Bromide) 與 NLS (Sodium Lauryl Sulfate)為選用的捕集劑; 文中對于PH值、時間、氣體流速、離子強度、乙醇濃度、捕集劑用量、鐵鹽或鋁鹽用量 (用於膠體吸附浮選) 均加以研究期能達到最佳的分離效果; 實驗結果顯示處理 10 ppm 染料, 以HTA: 染料=1.5:1 莫耳數比的泡沫分離法去除率可達 99%, 使用氫氧化鐵為吸附劑的膠體吸附浮選法亦可達 97%之去除率。(二)以石墨爐原子吸收光譜法直測海水中之鎘含量我們發展出一套迅速、準確的石墨爐原子吸收光譜法直測海水中低於十億分之一濃度的鎘; 為了避免海水中高濃度基質的干擾, 良好的溫控程式及適當的基質修飾劑是必要的。基質修飾劑 HNO 及 (NH ) HPO 的合并使用並配合 STPF 技術可使偵測極限達到 0.012 ppb, 而傳統上不易克服的基質干擾幾乎可完全去除, 如此我們可使用純水做成的校正曲線來定量海水中的鎘。另外, 若使用多重注射法可使偵測極限降至0.005 ppb 以下。

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