Abstract
Alteromonas espejiana Bal31 經 nitrosoguanidine(NG) 第一次突變處理後，以紫外光篩選，分離得到一株紫外光敏感菌D9.D9 經NG再次突變處理，又分離出 G20及H14 兩株紫外光敏感菌；比較它們對紫外光的平均致死劑量，發現D9.G20,H14各較野生型敏感 2.1倍，15倍及20倍。這些菌株對 4-nitroquinoline 1-oxide （類似紫外光作用物），mitomycin C ，順雙氯雙氨鉑化物（交叉鍵結物）的敏感程度皆為：野生型＜D9＜G20＜H14，與其對紫外光的敏感程度相似。對MMS 的敏感程度上，以H14 對此藥劑最為敏感。感染分析顯示：幾種寄主菌株修補紫外光照射過的PM2 噬菌體去氧核酸(DNA) 後，形成溶菌斑的能力分別是：野生型＞D9＞G20＞H14；利用鹼性瓊脂電泳法來分析這些菌株的切除修補能力，結果顯示：經過 60J/m2 同劑量的紫外光照射後，D9仍具有類似野生型的修補效率。而G20 及H14 的修補能力則明顯的降低。這個結果與上述菌株修補紫外光照射過的PM2 噬菌體之能力相吻合。此外，Weigle活化反應顯示：照射低劑量的紫外光後，野生型，D9，及 G20菌株之修補力可被誘發而提高，因而增加紫外光照射過的 PM2噬菌體的存活率。從以上這些結果暗示：這些紫外光敏感菌株可能在參與修補紫外光所造成傷害的基因上，發生了突變。