Abstract
本文以半導體業界曝光製程中，晶圓（wafer）曝光時產生的曝光誤差數據為實例，採用羅皓覺（1998）所建立的誤差模式，透過這些曝光誤差的回饋，來建立晶圓進行曝光時，可校正曝光誤差之步進機（stepper）位置參數之回饋控制（Feedback control）模式。半導體產品週期越來越短，產品越來越精細，因此，對於製程時間的要求以及製造誤差的控制越顯重要。本文將有助於建立半導體製程中曝光部份之曝光參數的回饋控制模式以縮減製程時間，及免去測試晶圓之使用以降低成本，並可減少曝光誤差。