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InSbTe相變化型光碟元件靜態寫擦特性及記錄層微結構研究
Thesis

InSbTe相變化型光碟元件靜態寫擦特性及記錄層微結構研究

陳立人
Masters, National Tsing Hua University
1995

Abstract

磁控濺鍍 介電層 Magnetron Sputterin dielectric layer
我們以磁控濺鍍法製作以In18Sb44Te38為記錄材料配合ZnS-SiO2介電層,Al反射層的相變化光碟薄膜, 首先量測記錄層材料熱處理前後及ZnS-SiO2的折射係數, 再參考文章上相近成分材料的資料帶入光反射率差異模模擬, 及熱傳模擬, 當作我們碟片結構的設計依據, 由熱傳模擬得到我們光碟膜的熱傳性質, 參考此結果以進行實際的寫擦測試接著使用Auger 電子縱深分佈分析來得知各膜層的組成元素並用TEM來分析微結構.

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