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LIGA process電鑄程序之電鑄鎳研究
Thesis

LIGA process電鑄程序之電鑄鎳研究

魏任傑
Masters, 國立清華大學, 化學工程學系
1997

Abstract

電鑄鎳 電鍍鎳 深孔電鑄 electroforming electroplating nickel LIGA
LIGA process為眾多細微加工技術中的一種,其特色為可製作尺寸差異 極大的深寬比之微結構,並可用以製造微結構的模仁,藉模造方式大量翻 製,達到低成本及快速生產的效益。本論文的目的即在於研究 LIGA process中的電鑄鎳程序,以製作品質良好的高深寬比微結構。LIGA process電鑄鎳程序所面對的主要有鍍液無法進入孔洞、氣泡吸附、雜質 吸附、鍍層內應力過大等問題。本論文採用胺基磺酸鎳鍍液並添加適當的 界面活性劑,配合循環過濾系統進行電鑄,可得到相當優異的效果。本論 文的特色在於將Aerosol系的界面活性劑應用在LIGA的深孔電鑄。胺基磺 酸鎳鍍液加入Aerosol系界面活性劑後,使鍍液有極佳的潤濕力與低鍍層 內應力,即使在高電流密度下,深孔電鑄亦有不錯的電鑄品質。我們經由 接觸角、內應力及硬度測量所得到的結果,發現胺基磺酸鎳鍍液添加 Aerosol AY或Aerosol MA的潤濕效果極佳,且鍍層具低內應力,Aerosol AY最適添加量為0.6g/L、Aerosol MA為0.5g/L。論文中並利用SEM及旋轉 電極技術討論鍍液添加界活性劑對電鑄不同深寬比模板的影響。電鑄低深 寬比模板(微結構長500μm寬20∼5μm高12μm)時,鍍液進入孔洞的問 題尚不嚴重,但電流密度大於2 A/dm2時,開始出現由氫氣吸附所造成的 坑洞,此時,添加界面活性劑的功能在於提高鍍液的潤濕力,使氫氣泡易 於脫離鍍層表面。電鑄高深寬比模板(微結構寬20∼7μm高210μm)時, 於較小孔洞已發生鍍液難以進入的問題,同樣地,電流密度大於2 A/dm2 時也開始出現由氫氣吸附所造成的坑洞。故在電鑄高深寬比模板時,添加 界面活性劑的功能在於降低鍍液的表面張力及提高鍍 以銅離子討論孔 洞質傳行為,發現模板尺寸寬在250μm(長500μm深11μm)以上時,銅 離子的擴散係數幾乎與平面旋轉電極相同,在6 •10-6cm2/s∼6.2•10-6 cm2/s之間。尺寸寬在100μm∼50μm時,銅離子的擴散係數較平面旋轉電 極稍低,在3.79•10-6 cm2/s ∼4.62•10-6 cm2/s之間,此時銅離子質 傳隨孔洞尺寸縮小而稍微降低。

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