Abstract
在溫度低於 490K 下，用 N2 雷射 (337nm)照射純 1，2-二氯乙烷 (DCE)氣體，并不會引發任何光化學反應。若在室溫下照射DCE 和Cl2 的混合氣體，可引發DCE 的氯化反應。氯乙烯 (VCM)的產量隨溫度的增高而增多。在溫度為490K，氯分子的添加量是DCE 起始濃度的0.5％ 時，可得到最高VCM 產值。轉化率為10％ (量子產率 (Φ) 為230)。若Cl2 對DCE 起始濃度比小於0.5％，VCM 的生成速率正比於[DCE]•[Cl2]0.5。其反應機構，我們已將其合理的推導出。更高的Cl2 對DCE 起始濃度比值，并不能增加VCM 的總產量, 但卻增加 1，1，2-三氯乙烷 (TCE) 產量，因為反應C2H3Cl+Cl2→C2H3Cl3 和C2H3Cl2•Cl2→C2H3Cl3+Cl•都能有效的減少VCM 的量。在任何條件下，TCE 的總產量都等於Cl2 的添加量。就整個系統而言，氮雷射光只能增快 VCM生成速率，但卻不能增加 VCM的總產量。在 523K 下將約 3.5×10-2的 1，2-二氯乙烷，分別用 KrF和 XeCl 雷射照射，進行光化學反應，產物為氯乙烯和氯化氫。而二雷射所引發的光化學反應是一致的，其反應機構我們也已合理的推導出。若在反應之初，添加不同起始濃度的 VCM，會因為反應 C2H3Cl+Cl•→C2H3Cl2• 而減緩VCM 的生成速率，其減緩的程度正比於VCM 起始添加濃度的一次方。若在反應之初，添加不同起始濃度的 HCl，可能因反應 C2H3Cl2•+HCl•→C2H3Cl+Cl•+HCl 而促進VCM 的生成速度，其增快的程度正比於HCl 起始添加濃度的一次方。在反應溫度為 423K?533K 時，整個反應之活化能約為24.6kcal/mol，反應式 C2H3Cl2•→C2H3Cl+Cl•的活化能約為 19.6kcal/mol。