Abstract
Methacrylonitrile（MAN）與Methacrylic acid（MAA） 的共聚合物在１２０℃以上會引發結環結構，此結構在２４０?２６０nm的波長照射下，會產生斷鏈反應，因此可為正光阻（Positive resist） 本實驗主要即探討此deepUV正光阻的共聚合物組成，結構結環及斷鏈結構，耐熱性，不同溶劑下的顯影速率及抗活性離子蝕刻（RIC）能力。在本實驗中，我們以不同MAN 及MAA 單體比例從（１：１到６：１）合成其共聚合物，其聚合條件為在６５℃下進行總體聚合。利用 CNMR作結構鑑定發現所得共聚合物為無規則共聚合物，而其單體分子在共聚合物中的分佈依單體比例不同而不同。由於Poly（MAN－co－MAA）為thermal sensitive ，故其加熱條件對敏感度，對比度及顯影速率皆有重大影響。本實驗發現隨著共聚合物中MAA 比例，軟烤溫度及時間的增加其結環程度隨之增加。本實驗利用自行裝置的雷射干涉儀探討共聚合物組成和丙酮，”乙醇及乙醇╱水溶劑之間溶解關係。得知當組成中MAA含量增加時在乙醇中溶解速率增加，但在丙酮中卻減小。比較曝光前後溶解速率差異，得知COP１COP２之較佳顯影液為乙醇╱水（９５╱５），COP３COP４之較佳顯影液為丙酮。以CF□╱O□（９５╱１０） 活性離子蝕刻進行測試發現MAN 含量增加時其抗活性離子蝕刻能力隨之增加。