Abstract
以含浸法（impregnation）製備了２％及１０％Pd╱ZnO 觸媒，利用電子顯微鏡（TEM ），Ｘ射線繞射分析（XRD ），及程控溫度還原（TPR ）等技術，來探討這些觸媒隨還原處理所產生的影響。TPR 的光譜顯示，Pd╱ZnO 觸媒在８７℃左右有個脫氫波峰。並自室溫開始出現一連續的耗氫訊號，至４３０℃產生一明顥吸氫波峰。脫氫波峰來自溶解於鈀（Pd）內氫的脫附，其波峰位置則隨還原處理溫度的升高而向低溫移動，此點顯示ZnO 經還原後生成一部份還原狀態，並與Pd產生化學作用，將電子傳遞給Pd。隨後的再氧化處理（recalcination） 能夠破壞它們之間的作用，而使觸媒恢復低溫還原吐氫的行為。TEM 的影像顯示，ZnO 經水的處理後，其原有光滑平整的表面會被破壞，並產生出網狀物種（thin disordered network ）。 燒後的觸媒可看出 的顆粒約為３０ ，觸媒經１００℃氫氣還原二小時後，Pd顆粒周圍發現了明顯的區域影像〔可能來自氫濺散作用（spillover） 所造成ZnO 結構的改，此作用導致TPR 圖譜中自室溫開始持續的吸氫訊號。〕。區域影像隨還原溫度的升高而增大。XRD 光譜顯示，１０％Pd╱ZnO 在３００℃還原後，便有Pd－Zn合金（alloy ）的生成，生成合金的量會因４００℃的還原而增多，因此判斷TPR 光譜中，４３０℃較大的吸氫波峰，係Zno 經激烈還原釋出大量鋅（Zn）元素造成。