Abstract
近年來, 側磨單模光纖一直是研究的主題, 並且有很多研究的進展。這些 研究的主題涵蓋各式各樣單模光纖的側磨性質。側磨單模光纖也廣泛的製 作應用於光學元件, 譬如光纖耦合器、光纖濾波器和光纖偏振器等等。在 本論文, 我們的研究方向是那些擁有少數模的光纖和多模光纖的側磨光纖 及性質。因為這些光纖的側磨性質與單模光纖的性質有極大的不同。根據 文獻資料, 這個題裁至今極少被深入研究探討。所以我們針對這些光纖的 穿隧現象加以研究並討論未來可能的應用。在本論文中, 我們利用一些理 論公式計算高階模的特性。並且改變一些重要的參數, 作理論分析和比較 。由這些理論計算的結果我們可以推廣至多模光纖特性, 另外多模光纖也 利用幾何光學理論來討論其現象。由這些數質分析的結果, 我們可以瞭解 這些側磨光纖中傳播的不同模數光波的穿隧性質。基於此理論計算, 我 們發現研磨深度是一個非常重要的參數。所以為了研究這些光纖, 本實驗 使用矽晶片當作研磨基板。另外用此法可以得到較長的有效研磨度長度, 這對元件的製作有很大的發展空間。實驗量測上包括定性與定量的量測與 討論。並且也與理論計算相互印證。從實驗的結果, 我們得到一些與單模 光纖不同的性質。對於高階模光波也有更深入的瞭解。我們在本論文也探 討這些結果的可能應用範籌。本論文分五章:第一章前言; 第二章理論計 算; 第三章製程;第四章實驗量測; 第五章結論和未來展望。