Abstract
本文為了解開口 V形駐燄器迴流區大小隨開口量增加而增長或減短之兩種截然不同趨勢之機構，針對上游流速、上游紊流強度及壓力分佈三項因素，著手進行實驗之研究；以 V形駐燄器上游不同之紊流網格產生不同程度之紊流強度及改變上游流速，應用二維雷射都卜勒測速儀（ LDA ）量測迴流區長度；應用壓力量測系統量測V形駐燄器下游之平均壓力、壓力振盪分佈及應用熱線測速儀（ hot-wire anemom- eter）量測壓力振盪頻譜，所得結果如下： 1）在本實驗之游高雷諾數流場狀態下，上游流速對迴流區長度影響不大且上游自由流在各個不同程度之紊流強度下，並不會造成 V形駐燄器迴流區大小隨其開口量增加而增長或減短之兩種截然不同趨勢。 2）在迴流區大小隨開口量增加而增長的 V形駐燄器中，其機構是由於漏溢進迴流區內之噴流量較少，在此種由剪流層渦漩所主導的封閉性迴流區結構內，增加 V形駐燄器開口量會增加漏溢進迴流區內之噴流量，將迴流區內最小壓力中心位置往下游推擠，使得迴流區變長；當開口量持續增大使得漏溢進迴流區內之噴流量大到足以破壞剪流層渦漩結構及迴流區內之封閉性時，流場結構轉變為由噴流所主導之開放性迴流區結構，因此增大開口量便是增強噴流對迴流區結構之破壞力而使得迴流區內最小壓力中心位置隨開口量增大而往上游移動，同時造成迴流區變短。