Abstract
標準LIGA製程使用同步輻射加速器所導引出的X光進行微影，能製造高精度且深寬比超過100以上的微結構，但是LIGA製程花費不斐與標準LIGA製程只能製作具有垂直壁面的微結構（2.5D）等限制，限制了LIGA製程的應用彈性，對此改良的LIGA製程－移動光罩（Moving Mask）技術，將LIGA從2.5D拓展到真正的3D微結構，大大增加LIGA的應用範圍。 本論文針對移動光罩技術做前置的基礎特性研究，在PMMA光阻之X光微影方面，探討了曝光劑量、顯影深度、顯影速率等的關係，並且找出其相關的數學式與理論值；在模擬移動光罩技術進行劑量分佈的加工方面，建立劑量分佈加工的理論計算基礎；在針對微影後的試片進行表面粗糙度觀察與量測方面，分析了粗糙度產生的原因與了解其定性的趨勢，並且建立相關製程參數以及發展粗糙度改善的技術。 從曝光顯影實驗所得的結果，可以求得當有加100μm的石墨片時，顯影速率對吸收劑量的關係為R(D)=0.2017D2.5913，當沒有加石墨片時，R(D)=0.0904D2.3813；另外在粗糙度觀察方面，隨著顯影時間的增加，粗糙度會變大，多次顯影會使試片表面出現裂痕，而且裂痕會隨著顯影過程進一步的延長擴大，若是單次顯影則不出現裂痕，因此裂痕是由於反覆顯影過程所造成，在固定顯影條件下，粗糙度對應吸收劑量大致呈現線性的關係，歸納其結果發現濾片表面粗糙與光束劑量分佈不均是造成粗糙度的主要原因之一，而熱處理方法可以有效改善試片表面的情況，但是熱處理的溫度變化，會使試片產生裂痕。