Abstract
本實驗是用TPR ，EPR ，XRD ，及Raman 等儀器來探討ＭｏＯ3╱Ａｌ2Ｏ3 觸媒的還原行為。觸媒是利用含浸法所製得。ＭｏＯ3（ｘ）╱Ａｌ2Ｏ3 （x ＝１，２，４，８，１６wt％）觸媒在TPR 圖形上顯示一主要的波峰，其溫度約８３０℃，隨鉬含量的增加波峰面積也會增大。當鉬含量大於２wt ％時， ４３０℃的波峰溫度逐漸生成，此波峰而積亦隨著鉬含量的增加而增大。由於在１wt％時看不到４３０℃的波峰，而當Ａｌ2Ｏ3先經１０００℃，10hr的煆燒再製成觸媒後此波峰便出現了。因此４３０℃的波峰可能源自多層附著（multi-layer ） ＭｏＯ3的還原，（可能還原至Ｍｏ+4）而８３０℃的波峰除包括單層附著（monolayer）ＭｏＯ3 的還原外，應還包括多層附著ＭｏＯ3（Ｍｏ+5 或Ｍｏ+4）的進一步還原。又此二波峰位置都有隨鉬含量的增加而往低溫移動傾向，此及由於鉬含量愈多，單體聚集（aggregation ）的現象愈明顯，減弱了金屬與載體間的作用力，而使得還原溫度降低。及至鉬含量增至１６wt％時，新出現了５８０℃，６３０℃二個耗氫波峰，可能是由於〞bulk ＭｏＯ3”的還原。由EPR 的實驗中，測得Ｍｏ+5的訊號位置出現在ｇ＝１．９３，且其含量很少。因此，Ｍｏ+5在Ｍｏ+6的還原過程中，可能並非穩定存在的中間體，大部分可被還原的Ｍｏ+6都被還原成Ｍｏ+4。又Ｍｏ+5訊號形狀會隨還原溫度而改變，因此，我們猜測Ｍｏ+5並非來自某種特定的結構，而是Ｍｏ+6（Ｏｈ）及Ｍｏ+6（Ｔｄ）二種結構經還原所生成的 Ｍｏ+5（Ｏｈ）及Ｍｏ+5（Ｔｄ）訊號加成的結果。又多層附著的ＭｏＯ3 ，含有 Ｍｏ+6（Ｏｈ）及Ｍｏ+6（Ｔｄ） 二種結構，其晶格較不完整，故在XRD 及Raman 光譜上，無法擁有ＭｏＯ3 的特徵訊號。在探討ＭｏＯ3╱Ａｌ2Ｏ3 觸媒的還原力時，我們發現鉬含量很低（１wt％，２wt％）時，存在monomer ＭｏＯ3 ，使得觸媒在高溫（?９００℃）下都無法完全被還原，而鉬含量較高（＞４wt％）時，被完全還原的機會也就愈大。另外，由TPR 研究所算得的部分還原力與Raman 光譜所測得?９５０ｃｍ-1的散射強度來探討幾種不同鉬含量的HDS 活性，都發現ＭｏＯ3﹐（８）╱Ａｌ2Ｏ3 觸媒可能具有最佳HDS 活性。因此，推測HDS 的活性中心是來自多層附著（multilayer）上的Ｍｏ＝O 官能基 。