Abstract
本論文中探討利用RF磁控濺鍍法來製作的(Al2O3)x-(TiO2)1-x奈米薄膜，在不同的氣氛比、功率比、靶材面積比以及不同的熱處理條件下，其薄膜特性(成分、鍵結、結構、光學吸收等等)的變化。 由RBS結果顯示薄膜的成分隨著功率變化而有改變，鈦含量會隨著鍍膜功率增加增加。退火前後成分變化不大也未見顯著偏析現象，顯示薄膜成分保持均勻。由ESCA鑑定鍵結發現在退火前的薄膜中，鈦原子與鋁原子主要是以Ti4+與Al3+鍵結存在膜中。而在高溫退火(~1000℃)後，薄膜中的鈦原子除了原本的Ti4+以外，同時生成了許多高溫相的介金屬鍵結Ti3+。 微結構方面選用TEM與XRD 作為分析的工具，由XRD結果確定了膜中TiO2的相轉變溫度。而TEM觀察結果，發現未退火薄膜中有隨機分步的大小不同的的TiOx晶粒，尺度約在10~100nm之間，因含量較少，故XRD無法觀察到結晶的現象。退火後結晶性變佳，晶粒尺寸成長至100~200nm，鑑定後主要為TiO2(Rutile phase)混有介金屬化合物TiAl3於薄膜中。 光學吸收性質方面，退火後的薄膜除了可見光至紅外光波段有因介金屬化合物造成的吸收外，在紫外光波段亦有顯著的高度吸收現象，證實了薄膜中含有TiO2。