Logo image
二次離子質譜儀之研製
Thesis

二次離子質譜儀之研製

陳定全
Masters, National Tsing Hua University
1985

Abstract

二次離子質譜儀離子質譜儀薄膜
本文介紹一套自製的二次離子質譜儀系統。二次離子質譜儀為偵測離子撞繫表面濺射出來之二次離子的表面分析儀器系統。其將可應用在離子佈植、薄膜蒸鍍及各種物質表面的性質分析。如佈植的平面圖及薄膜厚度等。本系統包括有真空系統、離子槍、四極質譜儀以及信號處理系統等。本系統經實驗測試結果,在真空處理方面,加熱烘烤對水氣的除去有很好的效果。質譜儀測試結果,亦能與理論相配合。濺射反應的二次離子,經實驗與計算結果,推測其能量約為20eV左右。實驗中,亦做了不鏽鋼304材料,由本系統所測得的數據以及歐傑電子能譜分析結果的比較,證實本系統不僅能夠測出不鏽鋼304 的成份,並且各成份的同位素都可測得,唯目前本系統僅能量得正離子,對於陰離子並無法測量,而且在濺射反應時產生的背景雜訊,目前尚未克服,是本系統尚待改進之處。

Metrics

1 Record Views

Details

Logo image