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二氧化碳雷射的製作及其應用於陶瓷鍍膜
Thesis

二氧化碳雷射的製作及其應用於陶瓷鍍膜

楊智勝
Masters, National Tsing Hua University
1988

Abstract

二氧化碳雷射陶瓷鍍膜梅曼蒸鍍法光電偵檢器雷射濺渡法
自從1960年美國的物理學家梅曼(Mailman )作出第一部紅寶石雷射後,經過二十多面的研究改進,雷射已廣泛的應用於各個領域。為了鍍膜上的需要我們嘗試著自行設計製作一個簡單的二氧化碳雷射以供實驗所需,本雷射為一流動、縱向放電、內鏡式的二氧化碳雷射,共振腔長為1050mm,輸出力率瞬間最高達25瓦,在穩定時亦可維持在15瓦至20瓦之間,輸出模近於TEM。由於傳統的蒸鍍法,如加熱(thermal )法、電子束(electron beam )蒸鍍法、離子轟擊(ion bombardment )濺鍍法等有雜質含量且加熱區域小因此可在高真空下完成鍍膜程序而獲得高品質的薄膜,並且由於雷射的功率密度很大,故其對於絕緣性材料的蒸鍍率是一般傳統蒸鍍法所無法媲美的。因為雷射在蒸鍍應用上有這些優點所以深俱開發的潛力,相信在不久的將來雷射蒸鍍將廣泛的應用在薄膜的製作上。我們從本實驗中發現經過適當的聚焦以後的CO 雷射對於陶瓷等絕緣材料的蒸鍍效果相當的好。尤其是我們成功的鍍出了兩種用來做光電偵檢器(detector)的陶瓷材料(MTTO和NLSI),其厚度達1100 ,均勻度亦甚佳。由ESCA的分析發現其組成亦不變。而這兩種材料用機械加工的方法很難把它磨平,所以用雷射蒸鍍的方法來發展這種偵檢器相信是非常可行的。

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