Abstract
第一章 引言第二章 二次離子質譜儀及輝光放電之基本原理２－１ 二次離子質譜分析原理２－２ 質譜分析原理２－３ 輝光放電基本原理第三章 實驗系統與方法３－１ 二次離子質譜儀分析系統３－１－１ 真空系統３－１－２ 離子槍３－１－３ 四極質譜儀３－２ 輝光放電系統３－２－１ 真空系統３－２－２ 樣品傳送系統３－３ 深度分析與能譜圖第四章 結果與討論４－１ 清洗效果之比較４－１－１ 正離子４－１－２ 負離子４－２ 鋁合金表面物質之認定４－２－１ 二次正離子質譜４－２－２ 二次負離子質譜第五章 結論參考資料附錄（同位素表）~9205645~9205645