Abstract
摘要 本實驗主要使用輝光放電以及加熱烘烤的方式，處理樣品表面。然後再暴露定量濃度的水氣至樣品表面，以SIMS方法觀察樣品表面水氣訊號的增減，實驗中也利用以同位素的方法觀察水氣暴露的作用，並且也分析了各種處理方法對於表面污染物的影響。 實驗結果發現：(1) 樣品表面經輝光放電清洗後，能有效降低表面的污染物及水氣訊號；(2) 以水氣同位素暴露水氣後，發現暴露水氣的訊號會與樣品表面原有的水氣訊號，發生同位素置換的效果；(3) 樣品加熱烘烤比輝光放電清洗更有效的去除表面污染物及水氣訊號。但是在加熱烘烤完畢，對樣品深度分析時，發現水氣訊號會有先下降再上升的趨勢，可能是加熱烘烤對樣品內部的水氣訊號無法有效的降低。