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以氧化以穩定化氧化鋯擔載銅-鉻觸媒行程溫還原反應之研究
Thesis

以氧化以穩定化氧化鋯擔載銅-鉻觸媒行程溫還原反應之研究

楊曉文
Masters, 國立清華大學, 化學工程學系
1996

Abstract

氧化釔穩定化氧化鋯 程溫還原 氧空洞 溢流效應 Copper Chromium YSZ TPR Oxygen Vacancy Spillover
由於工業發展與經濟繁榮,人們的生活水準因此逐漸提高,伴隨而來的空 氣汙染、水汙染、垃圾汙染以及噪音汙染等環境污染問題也日益嚴重,其 中由不斷增加的機動車輛所排放的廢棄所造成空氣品質的惡化是不容忽視 的。一般減少車輛所排放汙染量的方法有兩種,一是改良引擎設計及燃燒 效率,另一為加裝尾氣處裡系統。前者著重於引擎燃燒效率之效率之提高 ,以調配氣燃比等方式,達到降低汙染物生成量的目的,但至目前為止都 無法發展出一低汙染性汽油引擎。因此為達到防治汙染的目的,加裝尾氣 處裡系統,及觸媒轉化器,為必要之措施。目前使用之觸媒轉化器,其主 要活性成份為鉑、鈀、銠等擔載在氧化鋁上,是一種三元觸媒,能同時將 一氧化碳、碳氫化合物為水與二氧化碳以及還原一氧化氮為氮氣。其普遍 被採用的原因為上述貴金屬之活性良好,但因其價格昂貴及蘊藏量有限, 故基本金屬之研究開發為發展之趨勢。 本研究是以具有氧空洞之導氧離 子材料擔載銅- 鉻氧化物觸媒進行程溫還原反應之研究。 觸媒之製備採 用共含浸法,將銅-鉻含浸於含氧空洞之導氧離子材料氧化釔穩定化氧化 鋯擔體上,亦採用氧化鋁為擔體以資比較。觸媒之鑑定方式是以程溫還原 方法。由程溫還原實驗得知,銅-鉻擔載在YSZ上時,位在YSZ擔體氧空洞 上或旁邊的端點氧離子與旁邊的鉻氧化物發生電子效應,使此還原峰溫度 比銅擔載在 YSZ上時提高約攝氏30度。銅得加入使得在還原時發生氫氣的溢流效應, 氫氣會被已還原的金屬銅吸附,在擴散至鉻氧化物上,使其還原溫度被降 低。而擔體表面積越大或擔載量越少,鉻的氧化態改變數會越多。在此又 發現銅-鉻以等莫耳數擔載在氧化鋁上時,其整體的還原峰溫度會比高度 分散的還原峰溫度低。

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