Abstract
氮化硼由於其具有高硬度而且耐酸耐腐蝕的特性,所以近年來廣受科技人 員的注目,但由於目前尚未得到很好的結果,故大家以不同的技術去鍍氮 化硼膜,試圖找出最佳之鍍膜技術及鍍膜條件. 現今較常使用的方法為化 學氣相蒸鍍法, 離子佈植法,活化反應蒸鍍法等等.在本篇論文中, 我們分 別利用Nd-Yag 雷射以及脈衝式二氧化碳雷射作為蒸發源去蒸發氮化硼的 靶材, 並且輔以電漿活化反應系統,以此方法來蒸鍍氮化硼膜.在使用脈衝 式二氧化碳雷射作蒸鍍源時, 由於其能量太低 (約 50毫瓦), 故無法讓 氮化硼附著在基板;而在使用Nd-Yag 雷射作蒸發源時則可以在基板上鍍 上氮化硼膜, 不過若沒有加上電漿系統,所鍍出膜的附著力很差,硬度很 低;若加上電漿系統,並且在基板上加上負400 伏左右的電壓, 則可以使鍍 出之氮化硼膜的硬度超過3000 Kgf/mm2, 但膜的均勻性會變的很差, 而 且硬度會隨著時間而降低.但若在鍍膜後加上熱處理則可以緩和這現象,本 實驗曾把鍍膜後的樣本放入真空腔中經過2 小時 攝氏 350 度的熱處理, 而這些樣本在一個星期後再測量其硬度值, 可以發現其硬度衰減程度已較 未作熱處理者緩慢很多.本文分為五章:第一章前言;第二章原理;第三章文 獻回顧;第四章實驗系統與實驗步驟;第五章結果與討論.