Abstract
本論文期望模擬在一維的週期性基板上，以離子束濺鍍法製作二維自我複製式光子晶體的成膜過程，首先需著手的便是在方形基板上，模擬出三角形的成膜過程。 故本論文分為兩個部份：第一部分於離子束濺鍍系統中作了一系列的沉積與蝕刻速率之理論分析與模擬，此模擬系統的模擬參數值可由實驗擬合得之。 第二部份則為方形基板上，三角形成膜過程的模擬。以上述建立的離子束濺鍍系統模擬，在基板上加射頻偏壓作為蝕刻源，我們採取傾斜基板的方法，以求模擬不同斜角的基板初始結構之沉積與蝕刻速率，進而模擬方形基板上三角形的成膜過程。另外，尚可改變基板結構參數，分析三角形在不同結構變化下的成膜過程。 我們必須先找出Ting’s Model的D與E的曲線，也就是不同斜角的基板初始結構其沉積與蝕刻的速率。而要找出不同斜角的基板初始結構其沉積與蝕刻速率，我們需要從頭模擬離子束濺鍍系統中其沉積與蝕刻的速率。 論文主要架構為：第一章為基本介紹，第二、三章針對離子束濺鍍系統做了詳細的沉積與蝕刻速率之理論分析與模擬，第四章則是實驗部份，將其結果與模擬結果擬合（fit）出模擬參數值，以此擬合出的模擬參數值，在第五章中可計算不同傾斜角度的平面基板之沉積與蝕刻速率，為的便是想要模擬出不同斜角的基板初始結構之沉積與蝕刻速率。以此，便可畫出Ting’s Model的曲線。接下來，建立基板初始結構，進而模擬三角形的成膜過程。