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使用流體化床對粉末進行表面處理
Thesis

使用流體化床對粉末進行表面處理

陳志吉
Masters, National Tsing Hua University
1994

Abstract

化學氣相沉積 流體化床 Chemical Vapor Deposition Fluidized Bed
本研究是利用在流體化床中進行化學氣相沉積反應的製程,對氧化鋁與碳化矽粉末進行表面處理,以改善其與鋁合金之間的濕潤性.主要是在粉末表面鍍上一層鎳,銅與鈦.實驗方法是先將擬鍍的金屬填入石英管反應器中,再將欲處理的基質粉末填入而置於金屬床上方.通入氬氣將基質粉末加以流體化,再加入少量的氯化氫氣體以便進行反應.在適當的反應條件(溫度,氯化氫含量)下,氯化氫會先與金屬起反應,產生金屬氯化物,以做為蒸鍍先驅體.此蒸鍍先驅體再通過基質粉末,在其上再發生反應,進而將金屬釋放出來,沉積在基質表面.實驗結果以SEM,EDX與XRD等儀器加以分析.本研究同時也對基質粉末施以目前已很成熟的無電鍍處理,以與本製程之研究結果做比較.研究的結果,在鍍鎳的方面,在973K時,可以在基質表面鍍上純鎳,所形成的鍍膜不若無電鍍鎳平整.而鍍銅部份,在873K下,可以在基質表面上鍍上純銅,且其鍍膜較無電鍍銅緻密.在鍍鈦方面,所得到的產物則為鈦之氧化物.

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