Abstract
摘要 TFT-LCD（thin film transistor-liquid crystal display）面板由薄膜電晶體（TFT Array）、面板組立（Cell）及模組（Module）三大製程所構成，其中以TFT Array製程為最重要。由於TFT Array製程為三段製程之首，且因製程時間最長、機台設備最為昂貴，成為TFT-LCD製程的瓶頸所在。TFT Array製程對整個生產鏈之產出有重要的影響，若未能達到生產規劃部門所制定的產出計畫，將使後續製程發生缺料的狀況。因此，如何有效控制製造現場之在製品分布狀況，便成為影響TFT-LCD生產鏈的關鍵因素。 TFT Array製程具有許多特性與限制，使其現場控制變得相當複雜。TFT Array製/程具有受限產能迴流的特性，再加上其中的瓶頸黃光製程除機台以外需搭配光罩才可加工，每種產品的各迴流層都有其專屬的光罩，且光罩與瓶頸機台之間有一特定的搭配限制。同時，因為光罩成本昂貴，製造現場擁有之光罩數量有限，使光罩成為現場控制需要考量的限制。在迴流、光罩與機台搭配關係及光罩數量限制的特性下，造成現場之產能隨搭配方式波動，本研究提出考量黃光機台前在製品分布狀況之動態光罩重配置方法，來解決現場因光罩配置造成之產能波動問題，並透過模擬分析與傳統迴流環境中所討論之投料、派工方法進行比較，探討何者對系統績效影響較為顯著。 藉由實驗設計與模擬分析發現，本研究所提出的光罩重配置方法，無論在何種生產條件下，皆可使現廠產能有效控制，並發現光罩配置對系統績效之影響遠大於投料與派工方法。 關鍵字：陣列廠、迴流、光罩、投料、副資源配置。