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利用間質隔離法研究大氣中重要分子之雷射光解反應
Thesis

利用間質隔離法研究大氣中重要分子之雷射光解反應

陳世芳
Masters, 國立清華大學, 化學系
1998

Abstract

氯氣 二氧化硫 間質隔離法 紅外吸收光譜 308 355 Cl2 SO2 ClSO2 Cl2SO2 matrix isolation methed 355 308 IR
利用間質隔離法將SO2與Cl2共沈積於低溫間質(Kr或Ar)晶格中,在355 nm的雷射光解下,吾人首次成功地利用霍氏紅外光譜儀觀測到ClSO2的吸收譜線,並以18O與34S同位素取代實驗及理論計算的配合鑑定出每個振動模。吾人將ClSO2在Kr間質中的四個吸收譜線分別指派為(1)1309.6 cm-1,□5,S-O不對稱伸張;(2)1098.2 cm-1,□1,S-O對稱伸張;(3)497.0 cm-1,□2,OSO彎曲;(4)454.2 cm-1,□3,傘狀運動。而在Ar間質中ClSO2的吸收位置則位移至1311.6、1099.5、497.7與456.1 cm-1。另外,若以308 nm雷射來光解樣品間質的話,除了觀測到ClSO2外,亦觀測到有Cl2SO2的生成。

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