Abstract
本論是利用X光反射率量測法與原子力顯微鏡，利用程式轉換與理論模擬，量測表面粗糙度，得到三個重要的表面粗糙度參數---『縱深方向粗糙度』、『粗糙度指數』與『側向相關長度』，並比較彼此的結果，發現二組數據有極大的差異，並於討論之中，提出造成彼此差異的原因為兩種方法於『能量頻譜密度』所佔有之頻寬區域是不同的，以及於空氣中進行實驗，可能會有覆蓋層之生成，造成實驗結果有極大的差異。
- Title
- 原子力顯微鏡與X光反射率量測表面粗糙度之研究
- Translated title
- 原子力顯微鏡與X光反射率量測表面粗糙度之研究
- Creators
- 彭文彥 (Author)
- Contributors
- 李志浩陳福榮 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Date published
- 2002
- Language
- English