Abstract
在本研究中，我們使用X光光電子能譜分析在不同氣氛下CuOx-WOx共鍍膜之化學組成變化。 其中，CuOx-WOx共鍍膜是利用反應式雙槍共濺鍍系統在常溫、定壓 (10 mTorr)、與定功率(W:Cu=20 W:10 W)下，以不同O2/Ar流量比鍍製而成。 從W之電子能譜，我們發現在低O2/Ar流量比時，鍍膜中之W會呈現W0、W4+、W5+、W6+等多種價態。 可是當O2/Ar流量比高於60%時，就只剩下W6+。 同樣的，在低O2/Ar流量比時，鍍膜中之Cu會呈現Cu+與Cu2+兩種價態。 可是當O2/Ar流量比高於60%時，就只剩下Cu2+。