Abstract
準分子雷射的波長短、能量密度高、脈衝時間短，可用以加工微細結構，因此已被逐漸應用於微機電LIGA製程之光刻源，亦稱為Laser LIGA技術。目前光刻所使用的材料大多以PMMA為主，或是在PMMA添加可提高雷射光吸收性的化學物質等。但是所製作出來的微結構會有嚴重的熔融及產生氣泡的現象，容易導致圖案失真的情形。 為了滿足KrF 雷射LIGA製程的需求，光刻材料除了對KrF雷射需有極佳的光刻特性外，還必須耐電鑄液的侵蝕，並可在電鑄後容易去除，以獲得所需的金屬微結構。因此本研究將引入含有hexafluoropropyl group的雙酸酐與含有側基不共平面之雙胺，進行縮合反應以製備聚亞醯胺，並利用紅外線光譜與氫核磁共振光譜確定其結構。聚亞醯胺DMDB/6FDA、OT/6FDA有良好的溶解性(可溶於NMP、DMAc、THF、Acetone等溶劑中)，以及良好的高溫穩定性，而且對248 nm波長的KrF雷射具有強度的吸收係數(DMDB/6FDA與OT/6FDA分別為1.26×105 cm-1及1.49×105 cm-1)。 光刻性質方面，由於聚亞醯胺DMDB/6FDA、OT/6FDA在主鏈上含有柔軟性的6F鍵結，因此光刻過程中更容易使其鍵結斷裂，所以光刻速率遠大於Kapton，並且在線寬精度上也有非常不錯的表現，故可製作出最小線寬及高寬比分別為10微米及30的梳狀、Fresnel等微結構。此外藉由電鑄製程的測試結果，證實本研究所合成的可溶性聚亞醯胺可以忍受電鑄液的酸性條件，並且可得到電鑄的金屬微模仁。