Abstract
基於研究氫分子離子光譜的需要，必須有一台高功率而且波長為單模連續可調的雷射作為激發的光源。目前在實驗室中已有一台Littman式單模可調脈衝式染料雷射。 Littman式單模可調脈衝式染料雷射最早是在1978年由Littman及Shoshan分別提出來。這種雷射的主要特徵在於雷射共振腔內放了一個擦射入射的光柵，而且沒有用到任何將光束擴散的光學元件。藉由這樣的設計，他們相當容易地得到單模的輸出。但是當波長改變時，原來的模不會跟著調整，因此在波長調變的範圍內有很多不同的模。為了解決這個缺失，Littman在1981年提出了一個相當特殊的設計。在這個設計中，波長調整鏡是繞著一個特殊的轉軸旋轉。當旋轉鏡移動時，繞射角和腔長一起同步調整。就是說當波長改變時，模距也會跟著一起調整。因此就有可能達成在整個波長調變區域內都是同一個模。但是由於機械上的誤差，在作單模掃描時沒有辦法一直維持同一個模，會跳到相鄰的模，這個現象稱之為跳模。 Raymond他們在1989年時研究跳模對雷射輸出的影響後發現，當跳模發生時，雷射輸出的方向會改變。如果能利用一個適當的偵測器量到這個變化，送一個誤差訊號給回饋控制線路去主動補償腔長變化的誤差，壓抑跳模現象的發生，如此單模可調的範圍就可以大幅的增加了。我在本論文中主要的工作是在於建立一整套雷射光源系統, 包括雷射的調整, 回饋電路的設計及測試, 實驗數據的存取及染料雷射控制的自動化