Abstract
本篇論文為研究三氟-2-甲基-2-丙醇胺類銅金屬錯合物的合成及性質探討並討論其在化學氣相沉積的應用。將兩當量的配位基(1b)、(1c)、(1d)、(1e)、(1f)、(1g)、(1h)、(1i)做成鈉鹽，再直接和一當量的氯化銅在THF中反應，就可得到一系列具高揮發性且空氣穩定的銅錯合物(2b)、(2c)、(2d)、(2e)、(2f)、(2g)、(2h)、(2i)。這些錯合物的物理性質TG/DTA及EPR和X-ray結構分析等，皆詳述於論文中。最後選擇錯合物(2b)和(2f)利用冷壁式反應器進行化學氣相沉積實驗，無論在惰性氣體(氬氣)或是還原性氣體(氫氣)的條件下，都能夠在矽晶片上沉積純度極高且表面均勻的銅薄膜。