Abstract
本實驗是利用穿透式電子鏡觀察由超高真空電子槍蒸鍍出來的 a-Si/V/Cu/Si 及 Ni/Cu/Si 兩系統的平視及橫截式試片, 以鑑定其磊晶結構, 及試片經熱退火處理後, 反應所生成的相, 以探討系統的熱穩定性.本論文中的研究結果, 大致上可歸納成下列幾點 : (1).釩和鎳皆可在銅晶種上長成磊晶結構. (2). 200 C 退火 1 小時後, 兩系統皆生成 Cu3Si,但Ni/Cu/Si 系統的反應並不完全.(3). 500 C 退火後 V 和其上的非晶矽反應生成多晶 VSi2.(3). Ni/Cu/Si 系統中生成的 Cu3Si 呈島狀分布, 且溫度愈高, 情況愈嚴重.