Abstract
非彈性量子穿隧光譜 (Inelastic electron tunneling spectroscopy) 是一種極敏感的量測系統，可用來量測聲子、化學鍵結的振動能譜，以及介電層中的缺陷，近年來由於氧化層(high-κ)的厚度降於5nm 以下，IETS 量測技術已被廣泛的用來研究金氧半元件(MOS device)，本實驗利用此技術來量測高介電常數閘極氧化物:氧化鉿以及氧化鉿摻雜氧化釔成長在矽以及砷化鎵上的聲子能量和化學鍵結的振動能譜，以砷化鎵為基板的IETS 光譜中，我們發現了因為氧摻雜於砷化鎵中所造成的缺陷的振動能量，關於此部分，可以在設計一系列由分子束磊晶(MBE)成長的氧化鉿以及原子層沉積(ALD)成長的氧化鉿長在砷化鎵的基板上，由於MBE 的成長方式中不含氧，而ALD 的成長方式有氧化劑的存在，因此，若我們可於ALD 成長氧化鉿於砷化鎵上發現氧缺陷於砷化鎵中的振動能量，而在MBE成長氧化鉿於砷化鎵上沒有發現此振動能量，那將可以更進一步的確認氧缺陷在砷化鎵上的真實性，這將是我們未來的工作。