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Thesis
增強型閘極掘入式氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率電晶體之研製
劉亞弦
Masters, 國立清華大學, 電子工程研究所
2013
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Abstract
氮化鎵
增強型
金氧半
高電子遷移率
掘入式
GaN
enhancement mode
MOS
HEMT
recess
因申請專利緣故,資料延後公開
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1
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Title
增強型閘極掘入式氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率電晶體之研製
Translated title
增強型閘極掘入式氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率電晶體之研製
Creators
劉亞弦
Contributors
黃智方 (Advisor)
Awarding Institution
國立清華大學, 電子工程研究所; Masters
Theses and Dissertations
Masters, 國立清華大學, 電子工程研究所
Language
Traditional Chinese
Resource Type
Thesis
Date published
2014
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