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增強型閘極掘入式氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率電晶體之研製
Thesis

增強型閘極掘入式氮化鋁鎵/氮化鎵金氧半高電子遷移率電晶體之研製

劉亞弦
Masters, 國立清華大學, 電子工程研究所
2013

Abstract

氮化鎵 增強型 金氧半 高電子遷移率 掘入式 GaN enhancement mode MOS HEMT recess
因申請專利緣故,資料延後公開

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