Abstract
本研究利用介質屏障放電(dielectric barrier discharge，DBD)進行大氣輝光放電，以六甲基矽氧烷（Hexamethyldisiloxane，HMDSO）為單體，混合氧氣、氫氣、氮氣、氬氣鍍膜。探討單體流量、混合不同氣體所製備之薄膜。並利用傅氏轉換紅外線光譜儀(FT-IR)、化學分析電子儀(ESCA)、接觸角量測系統、橢圓偏光儀(ellipsometer)、原子力顯微鏡(AFM)、紫外光-可見光光譜儀(UV-Vis)及鉛筆硬度測試薄膜特性。
- Title
- 大氣電漿氧化矽鍍膜之研究
- Translated title
- 大氣電漿氧化矽鍍膜之研究
- Creators
- 林怡秀 (Author)
- Contributors
- 寇崇善 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Date published
- 2011
- Language
- English