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奈米尺寸單層自組分子元件的製作
Thesis

奈米尺寸單層自組分子元件的製作

孫介偉
Masters, National Tsing Hua University
2002

Abstract

分子非等向性蝕刻自組反應式離子蝕刻電子束微影 molecularanisotropic etchingself-assembledRIEe-beam lithography
經過這幾年許多研究發現,分子電子元件不但可以擁有類似固態半導體元件的電子特性,在尺寸上更是固態電子元件無法突破的,僅有幾十A。本實驗將透過一些常見的半導體製程,在Si3N4薄膜上製作一個開口約幾十個奈米的孔洞,一邊鍍上金之後,利用Octanethiol [CH3(CH2)7SH]分子上硫基和金的吸附,將分子置入孔洞中,再將另一面鍍上金。實驗目的渴望能夠從,金屬-絕緣體-金屬(Metal-Insulator-Metal,簡稱MIM)結構中,透過一些理論穿遂模型,試圖解釋電子在分子中的傳導行為,並且將理論方程式輸入Origin運算,將實驗量測I(V)做非線性逼近(Nonlinear Fitting),獲得分子的 (Barrier Height),d(Barrier Width),以及用來代表位壘形式和電子有效質量的參數α,以便了解Octanethiol [CH3(CH2)7SH]的電性。

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