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射頻螺線型共振器激發電漿之研究
Thesis

射頻螺線型共振器激發電漿之研究

魏孝寬
Masters, National Tsing Hua University
2002

Abstract

螺線型共振器射頻電漿源 helical resonatorRF plasma
本研究目的在於建立一四分之一波長的射頻螺線型共振器電漿源,並探討其激發機制和特性分析。本研究已成功地架設螺線型共振器電漿源系統,以氬氣電漿為研究對象,本系統可激發高密度電漿(電漿密度可高達10的12次方每立方公分),操作氣壓範圍寬廣(0.1 mTorr至10 Torr)。在本系統中可觀測到azimuthal striations的現象,即氬氣電漿中放射出的光線強度有週期性調制的現象,這也暗示著系統操作在某些條件下對於均勻度會有一定的影響。實驗內容包括使用Langmuir probe量測電漿密度、電子溫度;使用dipole antenna量測系統軸心方向電磁場的分佈;使用光譜儀分析氬氣電漿中粒子的種類。此外將以上實驗結果與射頻功率及氣壓之間的關係進行分析與討論。

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