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平行雷射蒸鍍法製備之陶瓷薄膜發光現象之研究
Thesis

平行雷射蒸鍍法製備之陶瓷薄膜發光現象之研究

盧廷義
Masters, National Tsing Hua University
1995

Abstract

雷射 蒸鍍 陶瓷薄膜 發光 Laser Evaporation Ceramic Thin Film Luminescence
本研究以平行雙雷射蒸鍍熱發光材料於304不鏽鋼,鋁片,載玻片玻璃等基板上,在室溫下便可沈積出結晶性薄膜.於304不鏽鋼基板可沈積出立方結構之二氧化鋯薄膜,及單斜結構之三氧化二釓薄膜.於玻璃基板可沈積出單斜結構與正方結構混合相之二氧化鋯薄膜,及單斜結構之三氧化二釓薄膜.沈積於玻璃基板之薄膜,具有極佳之附著性,厚度及成份分佈均勻,並有良好之結晶性,為實驗所得最佳條件之薄膜,在熱發光測試中亦有最好之表現.沈積於304不鏽鋼及鋁基板之各類薄膜其熱發光行為都很相似,其熱發光輝光曲線有兩個熱發光波峰,低溫波峰在室溫下不穩定,另一波峰雖在室溫下較穩定且對302nmUV有較高之靈敏度,但比鍍著於玻璃基板薄膜之熱發光強度小約100倍,不適合紫外線曝露之測量.沈積於玻璃基板之各類薄膜,對302nmUV有很高之靈敏度,其熱發光輝光曲線僅有一個熱發光波峰,波峰之強度與面積皆適合紫外線曝露之測量.薄膜試片經過熱發光計讀後,第二次計讀僅為背景值,即加溫計讀過程已完成回火工作,回火後之試片仍可再用作紫外線曝露之測量,惟其強度隨使用之次數遞減.實驗之三種薄膜皆可測量太陽光,日光燈,燈泡等環境中之背景紫外線,其中以(ZrO2:Zn)陶瓷磷光體具有最高之靈敏度.

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