Abstract
本論文旨在研究掩飾對苯 的光化學反應及溶劑效應, 并應用於(±)-Desepoxy-4,5-Didehydromethylenomycin A 及 Methy lenomycin B的合成研究。(±)-Desepoxy-4, 5-Didehydromethylenomycin A及 Methylenomycin B 二抗生素的合成設計均以化合物25為起始物, 分別經由數個步聚合成化合物28及19。此二化合物為文獻報導的中間產物, 故半合成至此即算完成。本合成過程中關鍵步驟有二, 第一個關鍵步驟為以含三結晶水的硝酸鉈對酚類的氧化反應, 可別得化合物27及35產率為85及95% 。第二個關鍵步驟為光重排反應, 將掩飾對苯 27及35以甲醇為溶劑進行照光反應 (350nm), 經光重排反應及溶劑的親核反應可得中間體43及45, 再將化合物43及45的原甲酸甲酯基再水解成酯基, 即可得化合物28及19產率為60及42%。掩飾對苯 的光化學研究, 主要研究取代基及溶劑對掩飾對苯 光化學反應的影響,照光前驅體化合物55, 61, 67以 氧苯酚為起始物, 經數個步驟分別合成, 合成的關鍵步驟為N-溴丁二醯亞胺 (NBS)對苯酚氧化反應, 化合物 55, 61, 67 的甲醇及醋酸溶劑以 Rayonet 350 nm 光源進行照光, 得產物68?73, 由產物的光譜測定照光進行的反應機構可能首先脫去二氧化碳而形成4, 4-環氧基 -2, 5-環己二烯酮的中間體,隨後溶劑親核反應而得最終之產物。