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掩飾鄰苯 在Hirsutic Acid及Reptoside的合成研究
Thesis

掩飾鄰苯 在Hirsutic Acid及Reptoside的合成研究

朱崇玄
Masters, National Tsing Hua University
1989

Abstract

鄰苯雙環戊烷反應重排反應三角環開反應合成 HIRSUTIC-ACID-CREPTOSIDEDIELS-ALDEROXA-DI-π-METHANE
本論文研究的主要, 乃在於研究掩飾鄰苯 在天然物 Reptoside及 Hirsutic Acid C合成上的應用。由文獻上已知, 建立立體化學已吻合的雙環戊烷架構, 乃是合成 Reptoside及 Hirs-utic Acid C 的重要中間體, 亦是影響其合成總產率的關鍵所在。因此我們想利用掩飾鄰苯 與烯類化合物進行 Diels-Alder反應, 然後再利用照光進行 oxa-di- -met-hane重排反應, 很簡便的建立立體化學吻合的雙環戊烷架構, 進而完成 Reptoside及Hirsutic Acid C 的合成。在整個合成設計上有三個關鍵步驟: 第一是掩飾鄰苯 與甲基丙烯酸甲酯進行 Diels-Alder反應的結果; 第二關鍵步驟是化合物29與39照光能否進行 oxa-di- -methane重排反應; 第三則是照光後得到的三環 [3•3•0•0] 辛酮衍生物30與41, 是否能夠順利的進行三角環開環反應。利用異香草酸甲酯24為起始物, 經雙 -三氟亞碘醯基苯氧化成掩飾鄰苯 後, 與甲基丙烯酸甲酯進行 Diels-Alder反應生成化合物26, 為合成 Reptoside及 Hirsutic A-cid C 的共同中間體, 順利的克服了第一個關鍵步驟。化合物26分別經過三個實驗步驟可得化合物29與39。化合物29進行 oxa-di- -methane 重排反應, 可得到合成 Reptoside 所需的中間物30。但接下來的三角環開環嚐試上卻遇上困難。而化合物39進行照光反應希望能合成 Hirsutic Acid C的中間產物41, 但事實不然。我們只得到雙鍵被還原的產物。我們認為只要在官能基上加以修飾, 克服上述難題是指日可待, 因此對於 Reptoside及 Hirsutic Acid C的合成, 我們仍然滿懷信心。

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