Abstract
摘要 本篇論文為研究新型鈀錯合物的合成及性質的探討，並研究其在化學氣相沉積反應的應用。我們合成出六氟醇胺[OC(CF3)2CH2NR1R2]系列的配位基(1a)~(1d)、三氟醇胺[OC(CF3)(CH3)CH2NHR]系列的配位基(2a)~(2d)與[OC(CF3)2CH2C(CH3)NR]系列配位基(3a)~(3c)與氯化鈀反應，可得到一系列具有揮發性，且在空氣下穩定存在的錯合物，從TG/DTA的資料來看，這些錯合物可以在極短的溫度區間內，有相當大幅度的重量損失，滿適合作沉積鈀膜的前驅物。這些錯合物的性質，如TG/DTA與NMR等，皆詳述於論文中。我們選擇了產率較高，揮發性與熱穩定較佳的(4a)與六氟亞胺鈀錯合物系列中的(6a)，以熱壁式化學氣相沉積的裝置在矽晶片上鍍製鈀膜。