Abstract
此次實驗目的為觀察X光通過同調性複合式折射透鏡(compound refractive lens)在共振時的聚焦情形。樣品基底是垂直方向為(0 0 1)的四吋矽單晶(silicon wafer)，以微電子蝕刻技術製造出由法布里-珀羅共振腔(Fabry-Perot resonator)組成的複合式折射透鏡，並利用(12 4 0)原子面作為背向反射面，在能量等於14.4388 keV時，X光會在共振腔內形成同調性干涉產生共振。由於共振干涉條紋半寬非常小，能量解析度數量級必須要到達meV，因此利用超高解析度單光儀(ultra-high resolution monochromator，UHRM)來達到這項要求，收集了穿透光積分強度並以不同方法分析，皆可得到水平方向的X光被壓縮的效應，並算出焦距，證實了X光在共振時也能被聚焦。