Abstract
高能量的質點或電磁波與物質發生作用時，會將其能量傳遞給構成該物質的原子，甚至破壞原子間的鍵結，形成空穴間隙原子對，或是將電子游離、激發等，使得物質的結構與能態發生改變。在核融合反應器、同步輻射加速器中所用到的波導及光窗，便容易因輻射線的作用而使其性質發生變化。因此，我們設計一套真空蒸鍍系統來蒸著置層及多層抗反射膜，以便研究輻射對介電質光學薄膜性質的影響。實驗結果顯示，試樣經輻射照射後，由於色中心的形式，顏色隨著劑量的增加而漸呈暗棕。波長在４６０nm及６２０nm處出現的吸收波峰乃雜質離子的內遷移所致，短波長方 向的強烈吸收則由於電子被陷阱捕捉所致。就輻射效應而言，熱中子的影響不大，主要仍係由快中子所致，伽馬與氚質點的影響也很大。此外，供價鍵結物質對輻射效應要比離子鍵來得顯著。因此，蒸鍍離子鍵結薄膜不僅可提高透射率，還可降低輻射的傷害。最後我們發現，儘管輻射作用使薄膜對基板的附著力降低，但隨著中子與伽馬照射劑量的增加，附著力又呈漸增趨勢。