Thesis

氣相鍺於砷化鎵之擴散模式分析

柯宇駿

Masters, 國立清華大學, 電子工程研究所

2016

Abstract

雜質致失序

半導體雷射元件

量子井混合

鍺擴散

砷化鎵

Impurity-induced layer disordering

Semiconductor laser devices

Quantum-well intermixing

Ge diffusion

GaAs

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Details

Title: 氣相鍺於砷化鎵之擴散模式分析
Translated title: 氣相鍺於砷化鎵之擴散模式分析
Creators: 柯宇駿
Contributors: 邱博文 (Advisor)
Awarding Institution: 國立清華大學, 電子工程研究所; Masters
Theses and Dissertations: Masters, 國立清華大學, 電子工程研究所
Language: Traditional Chinese
Resource Type: Thesis
Date published: 2017