Abstract
橢圓偏光術（Ellipsometry）是一種構造簡單，操作簡易地光學技術，但卻能敏銳且精確地測量薄膜材料的光學常數及厚度。它的主要優點是對於被測材料的界面具有非破壞性，能測小面積薄膜材料的光學常數。由本文的實驗結果顯示，利用橢圓偏光儀，藉著多重入射角的方法，配合電腦程式可以準確地決定出三個光學常數。我們所使用的氧化鉛材料，其厚度 d可精確地被決定到50埃以內，折射率 n可被精確地決定到小數點下第二位，消滅係數 k可被精確地決定到小數點下第三位。從紫外╱可見光分光光度計光譜分析，以及橢圓偏光儀所測的（ψ，△）值改變，證明在高溫時，氧化鉛與鎢，氧化鉛與二氧化矽會起反應，導致薄膜系統光學性質的改變。因此，叮應用在光資訊儲存上，當做可寫僅讀的光碟材料。