Abstract
本篇論文的目的主要是想定量地了解調變氧含量對磁光薄膜(Magneto-optical film)垂直磁異向性的影響。由實驗上可以得知,我們所鍍製的含氧量之磁光薄膜經由磁性量測後所呈現飽和磁化量(Ms)､矯頑磁 力(Hc) 隨氧含量的增加而改變,表示我們可利用調變氧 含量來控制 Ms,Hc的大小,而應用於磁光可擦拭光碟。本實驗的主要架構是從如何利用四極質譜儀做定量分析氣體純度 開始, 然後再利用反應濺鍍法, 調變氧氣含量並通入氬氣,濺鍍 製作含氧之磁光薄膜; 當樣品完成 後, 利用磁振儀(VSM), 量子超導干涉儀(SQUID) 來測試其磁性,用薄膜厚度量測儀(ALPHA STEP 200) 測量其厚度,並用已知質量､面積的標準圓形玻璃來校準其面積,同時也介紹所使用的相關儀器設備, 包括冷凍邦浦 (Cryopump)､ 射頻與直流磁控式濺鍍系統(RF & DC magnetron sputtering system)､四極質譜儀､磁振儀､量子超導磁量儀､薄膜 厚度量測儀等之基本原理及操作上之重要技巧與注意事項。最後將所測量的數據結果作成圖表,定量地討論氧含量對磁薄膜垂直磁化與平行磁化的變化。本篇共分為下列幾章:第一章為緒論,將簡單介紹磁光光碟的優點以及目前磁光光碟所使用的材料 ; 第二章將簡介磁光光碟的讀､寫､擦原理, 磁光材料的特性;第三章則 介紹實驗方法與量測,先介紹所使用的相關儀器設備的基本原理及操作上應注意的事項,接著說明氣體純度的重要性,如何精密控制真空室中氧含量,及如何利用四極質譜儀分析其純度,然後談及如何設計調變氧含量的變化及其鍍製條件與流程,最後則是薄膜磁性與厚度量測;第四章分別為實驗結果與討論; 第五章結論。